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(4)已知Ksp[Co(OH)2]=5.910^-15,若“沉钴过滤”的pH控制为10.0,则溶液中Co^2+浓度为molL^-1。850^C煅烧”时的化学方程式为

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(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH2CHO、HCCHCH-CH2]为原料制备CH3CH2CH2-的合成路线(无机试剂任选):.

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15.如图是一种基于二硫键(-S-S-)的自修复热塑性聚氨酯材料的结构。该聚合物由两种单体分子聚合而来。二硫键在氧化剂OH或还原剂作用下发生变化:二硫键断裂转化为两个巯基-SH)或者两个巯基重新结合为二硫键,基于该原理可以实现聚合物结构的自修复。下列说法正确的是A.两种单体分子中的所有碳原子一定共平面B.形成聚合物的过程发生了缩聚反应C.二硫键在氧化剂作用下断裂,在还原剂作用下恢复D.该聚合物在一定条件下可降解